反渗透除硅加药装置

超滤/反渗透加药装置

反渗透除硅加药装置

产品简介:

对于高硅含量(尤其活性硅)的原水,常规阻垢剂对硅垢的抑制能力有限。本超滤繁盛头加药装置用于投加专用除硅剂或硅分散剂。这些药剂通过吸附、络合或改变硅酸聚合形态等方式,有效防止二氧化硅在反渗透膜表面聚合沉...

基础参数:

目标污染物:活性硅(二氧化硅) 药剂类型:镁剂、铝剂或有机高分子硅分散剂 控制依据:进水硅含量、pH值、温度 投加点:需在阻垢剂之前,并保证足够反应时间

产品简介

对于高硅含量(尤其活性硅)的原水,常规阻垢剂对硅垢的抑制能力有限。本超滤繁盛头加药装置用于投加专用除硅剂或硅分散剂。这些药剂通过吸附、络合或改变硅酸聚合形态等方式,有效防止二氧化硅在反渗透膜表面聚合沉积形成坚硬的硅垢,特别适用于采用地下水、地热水或某些工业废水作为水源,且系统回收率要求较高的应用场景。

产品优势

  1. 解决硅垢难题:针对性防止硅垢形成,突破高硅水质回收率限制。

  2. 保护膜元件:避免形成难以化学清洗的硅垢,延长膜寿命。

  3. 拓宽水源适用范围:使反渗透技术可用于处理更高硅含量的水源。

  4. 与阻垢剂协同:与常规阻垢剂配合使用,实现全方位防垢。

技术参数

产品技术描述: 加药控制策略需考虑硅垢形成的复杂性。通常根据在线硅表监测的进水硅含量,结合pH和温度(影响硅溶解度),通过经验公式或模型计算出加药量,进行前馈控制。系统需要精确的pH调节配合,因为pH值对除硅效果影响显著。药剂的混合与反应需要专门设计的管道或反应器。

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